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四氟化鍺GeF4產品中的氟化氫HF氣體殘留
發布日期:2023-02-16 13:33:31

近年來國家鼓勵國內半導體產業創新發展,打破國外壟斷,實現技術自主,出臺了一系列支持和引導該行業的政策法規。四氟化鍺(GeF4)作為一種鍺的氟化物,在半導體行業中用于摻雜和離子注入,結合乙硅烷氣體,可以直接在玻璃基底上制造硅鍺微晶,其潛在應用價值正越發受到國內外企業關注。


在某GeF4生產工藝過程中,需要盡力去除產品氣GeF4 中雜質HF氣體,使其殘留量值低于企業標準中的限量值(35ppm)。為了監測此工藝過程的效果,需要定量監測GeF4氣體中的HF殘留。含量范圍大約0-500 ppm。

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鑒知技術多組分在線氣體分析儀可根據氣體分子對激光能量的“選頻吸收”進行氣體濃度的測量,實現HF含量的實時監測,定量監測范圍可定制,在環境、安全監測中已有應用。上圖為GeF4生產工藝過程的HF殘留量監測方案,由于HF具有強腐蝕性無法用常規氣相色譜監測,在線激光氣體分析儀是殘留HF氣體檢測的解決方案。


下圖為某一批次GeF4生產工藝過程中殘留HF氣體監測實測圖,可見HF氣體殘留量高達40 ppm以上,高于35 ppm企標限量值,為不合格產品。

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鑒知技術氣體分析儀及氣體分析系統靈敏度高,能夠監測ppm量級的氣體殘留及含量值,也可以根據需求靈活定制。響應速度數秒內。定量檢測精±1.0%F.S.,設備防腐蝕,適合工業生產應用,在氟化工氣體監測、泄露預警中也有良好應用。


【相關產品】

鑒知技術氣體在線拉曼分析儀


【鑒知技術簡介】

北京鑒知技術有限公司,簡稱“鑒知技術”,是一家以光譜檢測技術為核心的專業公司,拉曼光譜儀、光纖光譜儀、多氣體分析儀等產品已廣泛應用于安檢、食品、藥品、醫療等諸多領域,公司致力于為客戶提供物質識別整體解決方案。


鑒知技術歷經10余年的孵育,專利累計申請數達200余件。公司所擁有的技術獲得了國家科學技術委員會科技成果鑒定證書及中國專利優秀獎,相關產品獲得了國際發明展覽會金獎、北京市新技術新產品證書、中國科學儀器年度優秀新品獎、朱良漪分析儀器創新獎之“創新成果獎”等。


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